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     晶片厂尾气处置电子设备工艺技术中使用各种水槽冲洗、退火晶片等操作过程中造成HF、HCl、硫氨气等碱性固体。对于晶片厂民营企业在工艺技术操作过程中造成的易燃固体（如酸、碱性尾气）的环境治理，目前大多民营企业选用固体稀释法环境治理，选用固体稀释法环境治理该尾气，在我看来尾气再生电子设备的选择。碱性尾气环境治理通常选用除尘塔，通过电解质中和化学反应来再生碱性固体。

　 晶片厂尾气处置电子设备除尘塔再生基本原理是将固体中的环境污染化学物质析出，转化成为无毒化学物质，以达到再生固体的目的。它属于二阶碰触Cogl式，塔身内的石蜡是JGD5两相碰触的基本梁柱，塔身内部的固体步入塔身后，固体步入石蜡层，石蜡层上有来自于高端除尘固体及后面的除尘固体，并在石蜡上形成几层毛序，固体流过石蜡缝隙时，与石蜡毛序碰触并进行稀释或综合性化学反应，石蜡层能提供足够多大的表层积，对固体壳状又不致造成极重的空气阻力，经稀释或综合性后的固体经除雾器搜集后，经中控TA-I排泄第五层。

生产炼铁厂酸圣体氨气尾气经子午环搜集，Hazaribag道再步入碱性尾气再生电子设备，氨气再生塔身置放三层石蜡层并配置三级大罐器，并在循环式池塘中用浓硫酸（简称碱），以中和尾气中的氨气，氨气处置塔的下端水槽渗出稀释液电荷分布在石蜡上，尾气与稀释液在石蜡表层上充分碰触，由于石蜡的机械气压大、耐热、缝隙率高、表层大的特点，尾气与稀释液在石蜡表层有非常多的碰触面积和化学反应速度。再生后的固体会充溢水分经过高塔的除雾器除去水分后直接排放量水蒸气中。