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TA-I展开了机能扩充，研制出新式Ultra Fn A固定式炉电子设备。该电子设备的热氢原子层堆积（ALD）机能强大了盛美北京固定式炉系列商品电子设备的应用领域。子公司还正式宣布，优异TA-IUltra Fn A固定式炉电子设备已于今NA底运到我G一间先

盛美北京副董事长赵累则表示：“随著方法论结点的急速增大，愈来愈多的顾客为满足用户其一流的工艺技术明确要求，不懈努力找寻愿密切合作的分销商密切合作密切合作KF。ALD是一流结点锻造中快速增长比较慢的应用领域众所周知，是本子公司固定式炉管系列商品电子设备的决定性新操控性。得力于对整座积体电路锻造工艺技术的体认和技术创新力，他们能快速密切合作KF崭新的氧化铝和氧化铝电子设备，以满足用户新经济消费市场的消费市场需求。崭新ALD固定式炉电子设备如前所述子公司原有的固定式炉设备网络平TA-I，配备综合化技术创新结构设计，应用软件演算法强化等同时实现氢原子层粘附和光滑堆积。”

业务流程，以锻造外壁间距层。此工艺技术明确要求退火速度较低，且石阶覆盖面积较好，与其它同时实现商业模式较之，Ultra Fn A固定式炉电子设备在演示中同时实现了均共形的明显改善。